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日前在首届临港新片区投资论坛上，中微半导体设备公司董事长兼首席执行官尹志尧博士提到了该公司的进展，指出中微半导体正在跟随台积电按照摩尔定律的发展走，后者的3nm工艺已经研发一年多了，预计2021年初就要试产。
尹志尧博士表示中微半导体也在跟着这个路线走，目前已经做到了5nm——尹志尧博士创立的中微半导体主要是蚀刻机、MOCVD等设备，它们与光刻机一并被称为半导体工艺三大关键设备，而这里说的5nm指的是用于5nm工艺的等离子蚀刻机。
据介绍，等离子体刻蚀机是芯片制造中的一种关键设备，用来在芯片上进行微观雕刻，每个线条和深孔的加工精度都是头发丝直径的几千分之一到上万分之一，精度控制要求非常高。
半导体工艺的技术水平是由光刻机决定的，所以中微半导体做5nm蚀刻机并不等于能做5nm光刻，但是这个领域的进展依然意义重大，先进的蚀刻机售价也要数百万美元，而且一条生产线要使用很多台蚀刻机，总价值依然不可小觑。
根据中微半导体的2019年上半年财报，该公司1-6月实现营收8.01亿元，同比增长72.03%；归属于上市公司股东的净利润3037.11万元，与上年同期相比扭亏为盈。
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