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光刻是半导体芯片制造中最费时间也是最费成本的环节之一，而且它决定了芯片的工艺水平，常说的XXnm工艺主要是看光刻机水平。
台积电的第一代7nm因为赶进度，没有使用EUV，而是DUV（深紫外光刻），不过随着7nm的改良以及5nm量产、3nm风险试产的进行，EUV开始更多导入。
ASML今年二季度的财报显示，虽然仅仅出货了9台光刻机，但净利润高达7.51亿欧元。毕竟，一台EUV光刻机的售价就达到约合10亿元人民币左右。
另外，TrendForce数据显示，今年第一季度，台积电营收102亿美元，是第二名三星的几乎4倍。
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