域名频道资讯站
我们一直在努力制造惊吓

南大光电ArF光刻胶取得重大突破:可用于7nm工艺

南大光电ArF光刻胶取得重大突破:可用于7nm工艺

不过EUV光刻胶也不是急需的,因为国内目前还没有EUV工艺量产,193nm的ArF光刻胶更加重要,目前国内有多家公司正在攻关中,这种光刻胶可以用于28nm到7nm工艺的先进工艺。

今天,南大光电在互动平台表示,公司的ArF光刻胶正在按计划进行客户测试,这意味着国内的ArF光刻胶技术取得了重要突破,从研发开始走向生产。

根据南大光电公司之前的 消息,公司于2017年开始研发“193nm 光刻胶项目”,已获得国家“02 专项”的相关项目立项,公司计划通过3年的建设、投产及实现销售,达到年产25吨 193nm(ArF干式和浸没式)光刻胶产品的生产规模,产品将满足集成电路行业需求标准。

本文素材来自互联网

赞(0)
分享到: 更多 (0)

评论 抢沙发

  • 昵称 (必填)
  • 邮箱 (必填)
  • 网址

中国专业的网站域名及网站空间提供商

买域名买空间