域名频道资讯站
我们一直在努力制造惊吓

台积电:3nm EUV工艺进展顺利 已开始接触早期客户

台积电:3nm EUV工艺进展顺利 已开始接触早期客户

(图自:TSMC,via AnandTech)

他表示:“我司在 N3 节点的技术开发上进展很顺利,并且已经与早期客户就技术定义进行了接触。我们希望 3nm 制程可进一步加大台积电在未来的行业领导地位”。

因 N3 技术仍处于早期开发阶段,台积电目前尚未谈及具体的特征、及其相较于 N5 的优势。该公司称已评估所有可能的晶体管结构选项,并未客户提供了非常好的解决方案。

N3 规范正在开发之中,台积电相信它将满足其业内领先的合作客户的要求。事实上,台积电已确认 N3 将是全新的工艺,而不是 N5 的简单改进或迭代。

作为该公司主要竞争对手之一的三星,则计划采用 3nm(3GAAE)技术。同时可以肯定的是,台积电 3nm 节点将同时使用深紫外(DUV)和极紫外(EUV)光刻设备。

由于台积电的 N5 工艺使用了 14 层 EUV,因此 N3 使用的层数可能会更高。作为全球最大的半导体合约制造商,其似乎对 EUV 的进展感到非常满意,并认为该技术对其未来的发展至关重要。

本文素材来自互联网

赞(0)
分享到: 更多 (0)

中国专业的网站域名及网站空间提供商

买域名买空间