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ASML发布Q2季度财报 EUV光刻机产能大增

在Q2季度中,ASML公司获得了10台EUV光刻机订单,而且这些订单不只是用于逻辑半导体工艺,还首次用于存储芯片——在此之前,三星表示将在未来的内存芯片生产中使用EUV光刻机,ASML的存储芯片订单应该是来自三星了。

对于EUV光刻机,目前最主要的问题还是产能不足,ASML现在出售的光刻机型号是NXE:3400B,每小时晶圆产能是150到155wph,不过Q2季度中ASML已经升级到了NXE:3400C型号,产能提升到了170wph,已经有客户做到了每天生产2000片晶圆的水平了。

根据ASML的路线图,未来EUV光刻机的产品还会再有一次提升,每小时晶圆产能最终将达到185wph,不过要等到2021到2022年了。

ASML发布Q2季度财报 EUV光刻机产能大增

再往后的话,EUV光刻机就要进入下一代了,提升光刻分辨率要靠新的物镜系统,ASML前几年就投资了蔡司光学20亿美元,双方将共同研发NA=0.55的High NA(高数值孔径)透镜,可以进一步提升光刻机的分辨率。

根据ASML的计划,High NA(高数值孔径)透镜的新一代EUV光刻机与在3nm节点引入,时间点是2023年到2025年,距离现在还早呢。

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本文素材来自互联网

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