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值得一提的是，凭借“高磁导率磁性基板关键技术及产业化”项目，魅族还在今年1月8日荣获了2018年度国家科学技术进步奖二等奖。
据了解，“高磁导率磁性基板关键技术及产业化”项目由魅族科技联合电子科技大学共自主研发，实现了基板材料环保低成本批量生产工艺，突破了系统集成、生产工艺、关键指标、技术标准等多项关键技术瓶颈，打破了国外技术和市场垄断并完成产业化。
目前，相关成果已在魅族、安费诺等国内外知名企业应用，产品销往美国、欧洲、日本、印度等数十个国家及地区。
据悉，高磁导率磁性基板是一类新型电子基板材料，具有磁导率高、厚度薄、阻抗匹配效果好等特点，被应用于近场通信、无线充电、抗电磁干扰等领域。
它的主要技术难点在于如何解决金属发射对高频信号屏蔽传输难题，以及采取哪种工艺能把材料制作得更薄，以满足电子设备薄型化、小型化和集成化需求。
国家科技进步奖既代表了中国科技界的最高荣誉，也是我国最权威的政府科技奖励，主要授予在技术研究、技术开发、技术创新、推广应用先进科技成果、促进高新技术产业化，以及完成重大科技工程、计划等过程中做出创造性贡献的中国公民和组织。
魅族表示，获奖的“高磁导率磁性基板关键技术及产业化”项目面向国家重大需求和现代产业发展急需，在多个方面实现了创新和突破，达到国内领先、国际先进水平，魅族将以此为契机，持续加大研发投入，掌握核心关键技术。
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